EMLC 2023 · 38. Mas­ken- und Lithografiekonferenz

Auf zu neuen Ufern im Jahr 2023 – Will­kom­men zur EMLC-Kon­fe­renz 2023 in Dres­den, Deutschland

Die EMLC-Kon­fe­renz bringt jedes Jahr Wis­sen­schaft­ler, For­scher, Inge­nieure und Tech­ni­ker aus For­schungs­in­sti­tu­ten und Unter­neh­men aus der gan­zen Welt zusam­men, um ihre neu­es­ten Erkennt­nisse auf dem Gebiet der Mas­ken- und Litho­gra­fie­tech­nik zu prä­sen­tie­ren. Die EMLC 2023-Kon­fe­renz ist der For­schung, der Tech­no­lo­gie und den damit ver­bun­de­nen Pro­zes­sen gewid­met. Sie bie­tet einen Über­blick über den aktu­el­len Stand der Mas­ken- und Litho­gra­phie­tech­ni­ken und die zukünf­tige Stra­te­gie. Hier haben Mas­ken­her­stel­ler und Anwen­der die Mög­lich­keit, sich mit den neu­es­ten Ent­wick­lun­gen und Ergeb­nis­sen ver­traut zu machen.

Dür­fen wir Ihnen eine kurze Vor­schau auf das Kon­fe­renz­pro­gramm geben? Wir freuen uns, fol­gende Tuto­ri­als ankün­di­gen zu können:

1. Tuto­rial »Tech­no­lo­gie der EUV-Lithographie-Optik«
Bern­hard Kneer, Carl Zeiss SMT, Ober­ko­chen, Deutschland
am Mon­tag, 19. Juni, 14:10 – 15:15

2. Tuto­rial »Aktu­el­ler Stand und Aus­blick für die EUV-Lithographie«
Takeo Watanabe, Uni­ver­si­tät von Hyogo, Japan
am Mon­tag, 19. Juni, 15:15 – 16:15

Pro­fi­tie­ren Sie von den tech­ni­schen Ses­si­ons und der Aus­stel­lung der EMLC Con­fe­rence 2023 und genie­ßen Sie das schöne Flair der Stadt Dresden!

Pro­gramm

Das kom­plette Pro­gramm fin­den Sie hier »

Eine Vor­stel­lung der Key­note­spea­ker fin­den Sie hier »

Zum Abschluss der Kon­fe­renz wird der ZEISS Award for Talents in Pho­to­mask Indus­try für die beste Stu­den­ten­prä­sen­ta­tion verliehen.

Anmel­dung

Die Teil­nahme an den Tuto­ri­als am Mon­tag, den 19. Juni ist für Stu­die­rende kos­ten­los!

Zur Anmel­dung geht´s hier lang »

Spra­che

Die Kon­fe­renz­spra­che ist Eng­lisch