Aktuelles › Jen­op­tik bei der SPIE Pho­to­nics West 2020

Neue Pro­dukte für die Lasermaterialbearbeitung

Anla­gen- und Maschi­nen­bauer ste­hen vor der Her­aus­for­de­rung, sich mit der Bear­bei­tung immer klei­ner wer­den­der Struk­tu­ren bei groß­vo­lu­mi­ger Fer­ti­gung am Markt zu eta­blie­ren. Jen­op­tik-Pro­dukte für die Laser­ma­te­ri­al­be­ar­bei­tung berück­sich­ti­gen erfolgs­kri­ti­sche Fak­to­ren wie Qua­li­tät, Zeit und Nachhaltigkeit.

Zu einer der wich­tigs­ten Mes­sen der Pho­to­nik-Bran­che in Nord­ame­rika geht Jen­op­tik mit neuer laser­strahl­for­men­der Optik an den Start: Der Pho­to­nik-Kon­zern prä­sen­tiert unter ande­rem F‑Theta-Objek­tive, die für ultra­kurze Pulse geeig­net sind, sowie ein inno­va­ti­ves Jus­tage-Kon­zept für Strahl­auf­wei­ter (Beam Expan­der). Dar­über hin­aus zeigt Jen­op­tik auf Kun­den­be­dürf­nisse anpass­bare Plug-and-Play-Lösun­gen für die Laser­ma­te­ri­al­be­ar­bei­tung, Halb­lei­ter­aus­rüs­tung, Bio­pho­to­nik und den Ein­satz in der Industrie.

Außer­dem ist der Jen­op­tik-Kon­zern erneut einer der Haupt­spon­so­ren der SPIE Startup Chal­lenge und unter­stützt den Wett­be­werb für junge Pho­to­nik-Unter­neh­men, der wäh­rend der SPIE Pho­to­nics West ver­an­stal­tet wird, mit Preis­gel­dern und Expertise.

Besu­chen Sie uns vom 4. bis 6. Februar 2020 auf der SPIE Pho­to­nics West am Stand #1141 oder bereits vom 1. bis 2. Februar 2020 auf der SPIE BiOS am Stand #8326 in San Fran­cisco, USA.

Hoch­auf­ge­löste Bil­der ste­hen in der Jen­op­tik-Bild­da­ten­bank in der Gale­rie Light & Optics I Presse zum Down­load bereit.

Neue F‑Theta-Objek­tive für die Laser­ma­te­ri­al­be­ar­bei­tung mit 355, 515 – 540 und 1030 – 1080 Nanometer

Mit neuen Sil­ver­line-Objek­ti­ven für Anwen­dun­gen mit den Wel­len­län­gen 355 und 515 – 540 Nano­me­ter erwei­tert Jen­op­tik die Voll­quarz-Objek­tiv­reihe für High-Power-Anwen­dun­gen. Absorp­ti­ons­ar­mes Quarz­glas und opti­mierte Ver­gü­tung in Kom­bi­na­tion mit ver­bes­ser­ten Reflex­la­gen befä­hi­gen die Objek­tive zur Anwen­dung mit ultra­kur­zen Laser­pul­sen. In ver­schie­de­nen Appli­ka­ti­ons­tests konnte die Leis­tungs­fä­hig­keit der Objek­tive bestä­tigt werden.

Das neue F‑Theta-Objek­tiv für 355 Nano­me­ter-Anwen­dun­gen ist für viel­fäl­tige Appli­ka­tio­nen und Mate­ria­lien ein­setz­bar. Das kurz­brenn­wei­tige Objek­tiv ermög­licht kleine Spot­durch­mes­ser in einem Scan­feld von 22 Mil­li­me­tern. Abhän­gig von der Appli­ka­tion sind Spot­grö­ßen bis zu 4,5 Mikro­me­ter rea­li­sier­bar. Das Objek­tiv ist beson­ders für die hoch­vo­lu­mige Seri­en­fer­ti­gung in der Mikro­tech­nik, Mikro­sys­tem­tech­nik und der Con­su­mer-Elek­tro­nik geeignet.

Ein wei­te­res F‑Theta-Objek­tiv für Anwen­dun­gen im Wel­len­län­gen­be­reich von 515 – 540 Nano­me­ter ist für Fer­ti­gungs­ver­fah­ren mit hoch­en­er­ge­ti­schen Faser­la­sern und Schei­ben­la­sern hoher Strahl­qua­li­tät aus­ge­legt. In die­sem Wel­len­län­gen­be­reich kann das Objek­tiv spe­zi­ell zum Bear­bei­ten von Kup­fer und Mes­sing ver­wen­det wer­den, bei­spiels­weise zur Bear­bei­tung von Elek­tronik­bau­tei­len, Lei­ter­plat­ten oder auch für die addi­tive Fer­ti­gung. Mit einer Brenn­weite von 115 Mil­li­me­tern kön­nen Werk­stü­cke in einem Scan­feld bis 71 Mil­li­me­ter bear­bei­tet wer­den. Erfolg­rei­che Appli­ka­ti­ons­tests, die mit einem Jen­op­tik-Laser­sys­tem vom Typ Jen­Las® femto 16 bei einer Wel­len­länge von 515 Nano­me­tern mit maxi­ma­ler Puls­ener­gie von 60 Mikro­joule und Puls­län­gen von 600 Fem­to­se­kun­den durch­ge­führt wur­den, bele­gen die Leis­tungs­fä­hig­keit des Objektives.

Dar­über hin­aus hat Jen­op­tik für Anwen­dun­gen mit 1030 – 1080 Nano­me­tern die Objek­tive der JENar®-Reihe erwei­tert. Das neue Objek­tiv ist für das Mar­kie­ren, Struk­tu­rie­ren und Beschrif­ten von Kunst­stof­fen und Metal­len sowie zur Struk­tu­rie­rung von Solar­zel­len kon­zi­piert. Es zeich­net sich durch ein gro­ßes Scan­feld von 254 x 254 Mil­li­me­tern und eine Brenn­weite von 347 Mil­li­me­tern aus und ist rückreflexoptimiert.

Die F‑Theta-Objek­tiv­fa­mi­lie von Jen­op­tik erfüllt die Anfor­de­run­gen nahezu aller gän­gi­gen Ver­fah­ren zur Mikro- und Makro­ma­te­ri­al­be­ar­bei­tung mit Laser­licht. Die Objek­tive sind äußerst robust und kom­men auch bei hohen Laser­leis­tun­gen ohne zusätz­li­che Küh­lung aus. Eine kleb­stoff­freie Fas­sungs­tech­no­lo­gie trägt zudem zu lang­zeit­sta­bi­len Hoch­leis­tungs­op­ti­ken und Inves­ti­ti­ons­si­cher­heit bei. Die Prü­fung jedes ein­zel­nen Objek­ti­ves auf Sau­ber­keit, Leis­tungs­fä­hig­keit und Trans­mis­sion sichert die hohen Qua­li­täts­stan­dards. Bei Anwen­dun­gen, die einen Objek­tiv­wech­sel erfor­dern, ist der Aus­tausch von Jen­op­tik-Objek­ti­ven ohne grö­ßere Anpas­sun­gen in der Laser­an­lage mög­lich. Für jedes F‑Theta-Objek­tiv ist zudem ein aus­tausch­ba­res indi­vi­du­el­les Schutz­glas vorgesehen.

Neues Jus­tage-Set für Beam Expander-Integration

Dank eines neuen Jus­tage-Sets von Jen­op­tik kön­nen opti­sche Strahl­auf­wei­ter (Beam Expan­der) jetzt noch ein­fa­cher im Laser-Strah­len­gang aus­ge­rich­tet wer­den, sowohl bei der initia­len Inbe­trieb­nahme als auch im lau­fen­den Betrieb. Die inno­va­tive Spann­vor­rich­tung für Beam Expan­der von Jen­op­tik ist stu­fen­los anwend­bar, mit vier Mil­li­me­tern Stell­weg und nor­mier­ter Ver­schrau­bung aus­ge­stat­tet. Dadurch sind die opti­schen Kom­po­nen­ten schnel­ler und gleich­zei­tig hoch­prä­zise zuein­an­der justierbar.

Mit­tels Linear­ver­stel­lung in X- und Y‑Richtung sowie Win­kel­ver­stel­lung in X- und Y‑Richtung, die wahl­weise auch kom­bi­nier­bar sind, sind vier Frei­heits­grade für Beam Expan­der im opti­schen Strah­len­gang mög­lich. Das Jus­tage-Set ergänzt ideal die Jen­op­tik-Strahl­auf­wei­ter vom Typ Beam Expan­der Stead­fast 1x – 4x sowie 1x – 8x und den moto­ri­sier­ten Beam Expan­der. Maschi­nen­in­te­gra­to­ren, Auf­trags­fer­ti­ger und Labore pro­fi­tie­ren von einer unkom­pli­zier­ten Zusam­men­füh­rung der opti­schen Kom­po­nen­ten in ihrer Laser­an­lage und einer schnel­le­ren Inbetriebnahme.

Über Jen­op­tik und die Divi­sion Light & Optics

Als glo­bal agie­ren­der Tech­no­lo­gie-Kon­zern ist Jen­op­tik in vier Divi­sio­nen aktiv. Opti­sche Tech­no­lo­gien sind die Basis unse­res Geschäfts: Mit dem über­wie­gen­den Teil unse­res Pro­dukt- und Leis­tungs­spek­trums sind wir in der Pho­to­nik tätig. Zu unse­ren Schlüs­sel­märk­ten zäh­len vor allem die Halb­lei­ter­aus­rüs­tung, Medi­zin­tech­nik, Auto­mo­tive und Maschi­nen­bau, Ver­kehr, Luft­fahrt sowie die Sicher­heits- und Wehr­tech­nik. Jen­op­tik beschäf­tigt rund 4.000 Mit­ar­bei­ter weltweit.

Die Divi­sion Light & Optics ist ein welt­weit akti­ver OEM-Anbie­ter von Lösun­gen und Pro­duk­ten, die auf pho­to­ni­schen Tech­no­lo­gien basie­ren. Jen­op­tik bie­tet ein brei­tes Leis­tungs­spek­trum und ver­eint dabei umfas­sen­des Fach­wis­sen aus Optik, Laser­tech­nik, digi­ta­ler Bild­ver­ar­bei­tung, Opto­elek­tro­nik und Soft­ware aus mehr als 25 Jah­ren Erfah­rung. Zu ihren Kun­den gehö­ren füh­rende Anla­gen- und Maschi­nen­bauer sowie Gerä­te­her­stel­ler in Berei­chen wie Halb­lei­ter­aus­rüs­tun­gen, Laser­ma­te­ri­al­be­ar­bei­tung, Medi­zin­tech­nik und Life Sci­ence, Indus­trie­au­to­ma­tion, Auto­mo­tive & Mobi­lity sowie Sicher­heit und wis­sen­schaft­li­che Institute.

Als Ent­wick­lungs- und Pro­duk­ti­ons­part­ner bün­delt Jen­op­tik in der Divi­sion Light & Optics ent­schei­dende Schlüs­sel­tech­no­lo­gien, hebt dadurch markt- und kun­den­spe­zi­fi­sche Sys­teme auf eine neue Stufe und deckt so den wach­sen­den Bedarf an höher inte­grier­ten Pho­to­nik-Lösun­gen. Die dabei ein­ge­setz­ten Sys­teme, Module und Kom­po­nen­ten hel­fen unse­ren Kun­den, ihre zukünf­ti­gen Her­aus­for­de­run­gen mit Hilfe pho­to­ni­scher Tech­no­lo­gien opti­mal zu meistern.

Kon­takt

Denise Thim
Lei­te­rin Kom­mu­ni­ka­tion und Marketing
JENOPTIK I Light & Optics
+49 3641 65–4366
moc.kitponej@smetsys-lacitpo
www.jenoptik.com